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    日本acti-ve臺(tái)式拋光機(jī)ACT-220AII:實(shí)驗(yàn)室高效拋光實(shí)用技術(shù)

    發(fā)布時(shí)間: 2025-09-23  點(diǎn)擊次數(shù): 20次
    在材料科學(xué)、半導(dǎo)體制造和光學(xué)研究等領(lǐng)域,高精度的拋光工藝是確保實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)成功的關(guān)鍵因素之一。日本acti-ve推出的ACT-220AII臺(tái)式拋光機(jī)以其性能和廣泛的應(yīng)用,成為實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)生產(chǎn)的理想選擇。

    突出特點(diǎn)

    • 高精度控制:ACT-220AII提供0-7000rpm的旋轉(zhuǎn)速度范圍,精度高達(dá)±1rpm,確保薄膜的均勻性,滿足不同材料和工藝的需求。
    • 多段式程序控制:具備10步程序控制和100種模式記憶功能,可靈活設(shè)置不同工藝參數(shù),適應(yīng)多樣化的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)需求。
    • 安全保護(hù):配備安全蓋,帶有磁性傳感器,當(dāng)安全蓋打開(kāi)時(shí),無(wú)法啟動(dòng)程序,旋轉(zhuǎn)中打開(kāi)安全蓋,機(jī)器將自動(dòng)停止旋轉(zhuǎn),確保操作安全。
    • 真空吸附:真空吸附功能可牢固固定基板,防止在拋光過(guò)程中移位,提高拋光效果的穩(wěn)定性。
    • 緊湊設(shè)計(jì):外形尺寸為W250×D330×H272mm,重量約18kg,占地面積小,便于在實(shí)驗(yàn)室中靈活擺放。

    應(yīng)用領(lǐng)域

    • 半導(dǎo)體制造:用于半導(dǎo)體晶片的拋光,確保表面平整度和清潔度,提高芯片的性能和可靠性。
    • 太陽(yáng)能電池生產(chǎn):在太陽(yáng)能電池制造過(guò)程中,對(duì)硅片進(jìn)行拋光處理,提升光電轉(zhuǎn)換效率。
    • 光學(xué)透鏡加工:對(duì)光學(xué)透鏡進(jìn)行高精度拋光,提高透鏡的光學(xué)性能,減少光散射和反射。
    • 納米技術(shù)與生物醫(yī)學(xué):在納米材料和生物醫(yī)學(xué)研究中,對(duì)樣品進(jìn)行精細(xì)拋光,為后續(xù)的分析和實(shí)驗(yàn)提供高質(zhì)量的樣品。
    • 液晶顯示器制造:用于LCD面板的拋光,確保顯示效果的均勻性和清晰度。
    • 實(shí)驗(yàn)與研究:在高校和科研機(jī)構(gòu)的實(shí)驗(yàn)室中,用于各種材料的拋光實(shí)驗(yàn),為科研工作提供有力支持。
    日本acti-ve臺(tái)式拋光機(jī)ACT-220AII以其高性能、高精度和廣泛的應(yīng)用場(chǎng)景,成為實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)生產(chǎn)中的設(shè)備。無(wú)論是半導(dǎo)體制造、光學(xué)加工還是納米技術(shù)研究,ACT-220AII都能提供可靠的拋光解決方案,助力科研和生產(chǎn)的發(fā)展。


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